ASML продвигает обновление нового поколения фотолитографических машин для удовлетворения потребностей в чипах для крупных дата-центров

ASML планирует сотрудничать с основными клиентами для разработки новых решений по производству самых современных устройств для производства чипов, чтобы удовлетворить потребности в чипах для крупных дата-центров, разработанных такими компаниями, как NVIDIA. В настоящее время фотолитографические машины с экстремальным ультрафиолетовым излучением (EUV) от ASML могут производить чипы размером до 800 квадратных миллиметров. Ожидается, что следующая генерация фотолитографических машин EUV с высокой числовой апертурой сможет производить более тонкие чипы, но из-за использования меньших масок площадь производимых чипов будет ограничена. ASML планирует продемонстрировать экспериментальную производственную линию с масками большего размера к 2031 году и достичь возможностей массового производства к 2033 году.

Этот контент предоставляется исключительно в общих информационных целях и не является финансовым, инвестиционным, юридическим или налоговым советом. Любые мероприятия, вознаграждения, онлайн-акции или связанная с ними информация, упомянутые в настоящем документе, не должны рассматриваться как рекомендация, приглашение к покупке, продаже, торговле или иной сделке с какими-либо криптоактивами. Криптоактивы очень волатильны и могут привести к убыткам. Доступность услуг, продуктов WEEX и связанных с ними событий может варьироваться в зависимости от региона. Вы несете ответственность за обеспечение того, чтобы ваше участие соответствовало применимым местным законам и нормативным актам.