ASML treibt Upgrade der nächsten Generation von Lithografiemaschinen voran, um den Bedarf an Chips für große Rechenzentren zu decken

ASML plant, mit wichtigen Kunden zusammenzuarbeiten, um neue Lösungen zur Herstellung der fortschrittlichsten Chipfertigungsgeräte zu entwickeln, um den Bedarf an Chips für große Rechenzentren, die von Unternehmen wie NVIDIA entworfen wurden, zu decken. Derzeit kann die extreme Ultraviolett (EUV) Lithografiemaschine von ASML Chips mit einer maximalen Größe von etwa 800 Quadratmillimetern herstellen. Die kommende nächste Generation der EUV-Lithografiemaschine mit hoher numerischer Apertur wird in der Lage sein, feinere Chips herzustellen, jedoch ist die Chipfläche aufgrund der Verwendung kleinerer Masken begrenzt. ASML plant, bis 2031 eine Versuchsfertigungslinie mit größeren Masken zu präsentieren und bis 2033 die Fähigkeit zur Massenproduktion zu erreichen.

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