China beginnt mit der Serienproduktion eigener DUV-Lithografiegeräte

China hat mit der Serienproduktion von selbstentwickelten tiefen Ultraviolett (DUV) Lithografiegeräten begonnen. Die Shanghai Aisena Electronics Technology Group plant, ab diesem Jahr Geräte an Chinas größten Auftragsfertiger SMIC sowie an Huahong Semiconductor und Changxin Memory zu liefern. DUV-Lithografiegeräte sind entscheidende Geräte, die Halbleiterkreise auf Wafer gravieren, und derzeit dominiert ASML den Markt. Aisena plant, in diesem Jahr etwa fünf Geräte zu produzieren und die Produktion bis 2027 auf 20 Geräte zu erhöhen. Es wird jedoch als schwierig angesehen, dass chinesische DUV-Geräte als ernstzunehmende Konkurrenz zu ASML aufsteigen. Reuters berichtete, dass die Geräte von Aisena einer Leistungsüberprüfung bedürfen und dass die technologische Lücke zu ASML groß ist. JP Morgan analysierte, dass stabile Produktivität und Zuverlässigkeit entscheidend für die Halbleiterfertigung sind. Die Auswirkungen auf die heimische Halbleiterindustrie werden langfristig als erheblich eingeschätzt, und wenn die Lokalisierung von DUV-Geräten in China erfolgreich ist, könnte dies die Produktionskapazität von SMIC und CXMT unterstützen. Es wird jedoch als schwierig angesehen, die EUV-Technologie und das Ökosystem von ASML kurzfristig einzuholen.

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